Solution: Panel-Level Fanout
Kallisto-Produktfamilie
Elektrochemische Abscheidung (ECD)
Eine fortschrittliche vertikale Prozessplattform für die nasschemische Behandlung von Substraten von 300 x 300 mm bis hin zu Gen 5.1 (1100 x 1300 mm), die auf die Bedürfnisse der Halbleiterindustrie zugeschnitten ist.
Advanced Packaging, Analoge und gemischte Signale, Automobilindustrie, Diskrete & Leistungsbauelemente, Erweiterter Speicher, Fortschrittliche Substrate, Mini/Mikro-LED, Optoelektronik und Photonik, Panel-Level Fanout
Phoenix-Produktfamilie
Elektrochemische Abscheidung (ECD) Fotolack-Entwicklung Fotolack-Strippen Nassreinigung/Strippen/Ätzen
Phoenix bietet eine vollautomatische, hochvolumige Plattenverarbeitung für 510×515 mm große Substrate an.
Advanced Packaging, Analoge und gemischte Signale, Automobilindustrie, Diskrete & Leistungsbauelemente, Erweiterter Speicher, Fortschrittliche Substrate, Mini/Mikro-LED, Optoelektronik und Photonik, Panel-Level Fanout