완벽하게 깨끗한 표면 구현
제조 단계 사이에 나중에 결함을 야기할 수 있는 불필요한 물질을 제거하고 추후 처리를 위해 웨이퍼 표면을 준비하는 제거 및 세정 기법이 사용됩니다. 포토레지스트 제거 작업을 통해 이온 주입 또는 식각 단계 후에 포토레지스트 필름과 잔여물을 제거합니다. 파티클, 오염물, 잔여물 및 기타 불필요한 물질을 제거하기 위해 전체 제조 과정에 웨이퍼 세정 단계가 포함되어 있습니다. 습식 처리 기법은 제거와 식각뿐만 아니라 웨이퍼 세정에도 사용할 수 있습니다. 플라즈마 베벨 세정은 웨이퍼 엣지에서 소자 영역에 영향을 줄 수 있는 불필요한 물질을 제거하여 수율을 높일 목적으로 사용합니다.
램리서치의 제거 기술은 남아 있는 포토레지스트를 선택적으로 제거하고 여러 용도에 사용할 수 있는 공정 유연성을 갖추고 있으며, 램리서치의 고생산성 세정 제품은 중심부터 가장자리까지 깨끗한 표면을 구현하여 가장 까다로운 세정 단계에서 사용됩니다.
제거 및 세정
램리서치 제품
DV-Prime & Da Vinci 제품군
Wet Clean
제조 전반에 걸쳐 웨이퍼 세정의 여러 단계를 높은 생산성으로 처리하는 데 필요한 공정 유연성을 갖추고 있습니다.
EOS 제품군
Wet Clean
램리서치의 고급 습식 세정 제품은 점차 까다로워지는 고처리량 분야에서 온웨이퍼(on-wafer) 결함을 크게 줄입니다.
Phoenix 제품군
Electrochemical Deposition (ECD) PR-Development PR-Strip Wet Clean/Strip/Etch
Phoenix는 510x510mm 기판의 완전 자동화된 대량 패널 처리를 제공합니다.
Reliant Clean 제품
Reliant Systems Wet Clean/Strip/Etch
램리서치의 Reliant 세정 제품군은 특수 기술의 로드맵을 지원하고 제조 시설의 생산 수명을 연장하는 솔루션을 제공합니다.
SP 시리즈 제품군
Wet Clean
성능이 검증된 이 제품군은 뛰어난 신뢰성과 비용 효과로 웨이퍼에서 불필요한 물질을 부드럽게 제거하는 습식 세정/습식 식각 솔루션입니다.
Triton 제품군
Electrochemical Deposition (ECD) Wet Clean/Strip/Etch
Triton 플랫폼은 단일 웨이퍼 도금과 습식 처리를 위한 다목적 모듈 솔루션입니다.