[Solution:] Advanced Packaging
ALTUS 제품군
Atomic Layer Deposition (ALD) Chemical Vapor Deposition (CVD)
시장을 선도하는 CVD 및 ALD 기술 결합 시스템으로 첨단 텅스텐 금속 공정에 사용되는 고등각 금속막을 증착합니다.
DV-Prime & Da Vinci 제품군
Wet Clean
제조 전반에 걸쳐 웨이퍼 세정의 여러 단계를 높은 생산성으로 처리하는 데 필요한 공정 유연성을 갖추고 있습니다.
FLEX 제품군
Atomic Layer Etch (ALE) Reactive Ion Etch (RIE) 극저온 식각
램리서치의 유전체 식각 시스템은 용도에 맞춘 기능 덕분에 고급 소자의 까다로운 구조를 다양하게 만들 수 있습니다.
Kallisto 제품군
Electrochemical Deposition (ECD)
300x300mm에서 1100x1100mm(5.1세대)까지 기판의 습식 화학 처리를 위한 첨단 수직 공정 플랫폼으로 반도체 업계의 요구 사항에 맞게 제작되었습니다.
OverViz
플라스마 모델링
OverViz™는 플라즈마 방전의 높은 정확도(high-fidelity) 모델링을 위한 산업용 시뮬레이션 소프트웨어 플랫폼입니다.
Phoenix 제품군
Electrochemical Deposition (ECD) PR-Development PR-Strip Wet Clean/Strip/Etch
Phoenix는 510x510mm 기판의 완전 자동화된 대량 패널 처리를 제공합니다.
Reliant Etch 제품
Deep Reactive Ion Etch (DRIE) Reactive Ion Etch (RIE) Reliant Systems
램리서치의 Reliant 식각 제품군은 특수 기술의 로드맵을 지원하고 제조 시설의 생산 수명을 연장하는 솔루션을 제공합니다.
SABRE 3D 제품군
Electrochemical Deposition (ECD)
이 고생산성 시스템은 램리서치의 검증된 전기충진(Electrofill) 기술을 사용하여 첨단 패키징 분야에 필요한 양질의 금속막을 만듭니다.
SP 시리즈 제품군
Wet Clean
성능이 검증된 이 제품군은 뛰어난 신뢰성과 비용 효과로 웨이퍼에서 불필요한 물질을 부드럽게 제거하는 습식 세정/습식 식각 솔루션입니다.
Striker 제품군
Atomic Layer Deposition (ALD)
첨단 ALD 기술을 사용하여 나노 수준의 피처가 있는 고급 소자의 주요 공정을 완벽하게 제어하는 유전막을 제공합니다.
Syndion 제품군
Deep Reactive Ion Etch (DRIE) Reactive Ion Etch (RIE)
딥 식각 응용 부문에서 이 제품군은 고종횡비 피처를 형성하는 데 필요한 우수한 웨이퍼 균일도 제어 능력을 제공합니다.
Triton 제품군
Electrochemical Deposition (ECD) Wet Clean/Strip/Etch
Triton 플랫폼은 단일 웨이퍼 도금과 습식 처리를 위한 다목적 모듈 솔루션입니다.
VECTOR 제품군
Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
램리서치의 PECVD 제품군은 광범위한 소자 분야에서 높은 생산성으로 고정밀 유전막 증착을 실현합니다.