脉冲激光沉积产品系列
Products
脉冲激光沉积（PLD）是一种用途非常广泛的薄膜沉积技术，能够沉积各种先进薄膜材料。 随着当今市场对增强型新材料系统的需求，PLD 能够实现 PVD 反应溅射等传统技术无法沉积的材料薄膜。
这种沉积解决方案有助于实现更先进的器件设计，并推动用于 5G、WiFi 6 和 6E 的下一代射频滤波器、高端 MEMS 麦克风和其他 MEMS 应用的发展。 PLD 技术正在不断发展，以满足市场对新材料系统、AR/VR 和量子计算等应用的需求。 作为半导体行业的领导者，我们通过卓越的工程技术加快创新步伐，帮助芯片制造商创造出塑造当今世界的特色工艺。
行业挑战
特色工艺领域的各种应用需要对新兴材料进行加工。 其中一种材料是钪含量高的氮化铝钪（AlScN）。 随着 5G 市场的增长，对更高频频带滤波器的需求给现有的大批量生产技术带来了挑战。 为了满足这些颇为挑战的要求，需要一种用途广泛的薄膜沉积技术来实现更先进的器件设计。 泛林集团的 脉冲激光沉积产品可实现含钪量 ≥ 40% 的AlScN 薄膜的大规模生产。
- 射频滤波器可增加网络可处理的用户数量，同时提高每个用户的速度，从而在 5G 和 WiFi 6 性能中发挥关键作用。 薄膜的高钪含量通过增强机械耦合系数来改善射频滤波器的性能。
- MEMS 麦克风因其高信噪比而受到重视，即使是低沉的声音也能被准确捕捉，这对于 5G 设备中的语音控制功能和噪声消除至关重要。 薄膜中的高钪含量通过综合提高压电性能（e31,f）和介电损耗（tan d）来改善信噪比。
主要客户利益
- 用途广泛，可沉积复杂材料（尤其是 AlScN 等陶瓷）
- 出色的薄膜质量，包括高压电性能和低介电损耗
- 先进的薄膜控制，如 WiW 对薄膜厚度和应力的均匀性调整
- 利用 2300® 传输平台的现有安装基础，与刻蚀等其他泛林集团产品产生协同效应
产品
- 脉冲激光沉积
主要应用
- 用于射频 MEMS、MEMS 麦克风、压电微机械超声波换能器（PMUT）和微型扬声器的 AlScN 层