- 透過對稱腔體設計、業界領先的靜電吸盤技術和獨立的製程調整功能,實現了卓越的均勻度和再現性
- 原位多步蝕刻和連續電漿功能可實現高生產力和低缺陷率
- 先進的控制功能,適用於更高深寬比的應用
- 低風險、性價比高的蝕刻解決方案,適用於 6吋至 12吋晶圓尺寸
- Kiyo® 系列(透過 Kiyo45™ 實現)
- Flex® 系列(透過 Flex45™ 實現)
- DSiE™ 系列
- Syndion® 系列
- TCP® 9400 系列
- TCP® 9600 系列
- 導體蝕刻
- 介電層蝕刻
- 金屬蝕刻
- 蝕刻特殊薄膜(鋯鈦酸鉛 [PZT]GaN、AIGaN、SiC 等)。
- 用於微機電系統、功率元件和 TSV 蝕刻應用的深矽晶蝕刻
Reliant 蝕刻產品
Products
蝕刻技術應用於所有半導體元件的製造製程,以雕造出構成半導體元件的電晶體、接點和金屬佈線結構的特徵。 一些新興市場,包括微機電系統(MEMS)和功率晶片,使用多種類型的元件,其中一些元件比目前技術節點的元件具有更大和/或更不複雜的功能和新材料。 因此,出現了更多的生產要求,需要新的生產管理策略。
科林研發的 Reliant® 蝕刻產品實現了特殊製程的藍圖,並延長了晶圓廠的生產壽命。
Industry Challenges
包括微機電系統(MEMS)、功率元件和物聯網(IoT)在內的「超越摩爾」市場,正推動著滿足新蝕刻製程需求的低成本製造解決方案。 由於所使用的元件類型和新材料種類繁多,對蝕刻技術提出了多項要求,因此要滿足這些需求仍具有挑戰性。 例如,具有大型特徵的晶片面臨的主要挑戰是實現高生產量以保持生產力,而具有高深寬比(HAR)結構的設計則需要良好的製程控制。