光電與光子解決方案

Our semiconductor process modeling software (SEMulator3D) and plasma modeling software (OverViz) perform predictive modeling of etch, deposition, plasma & other processes, to identify problems prior to fabrication.

這些產品能以卓越的製程控制提高各種深矽晶蝕刻應用的生產力。

這些產品提供了高生產力所需的製程靈活性，可在整個製造流程中實現各種晶圓清洗步驟。

Lam Research的介電層蝕刻系統具備應用導向功能，可用來建構先進元件中的各種高難度結構。

先進的立式製程平台，用於對 300×300 公釐 至 5.1 代（1100×1300 公釐）的基板進行濕式化學處理，以滿足半導體產業的需求。

OverViz™ 是一個用於電漿放電高真實性建模的工業模擬軟體平台。

Phoenix 可為 510×515 公釐基板提供全自動大量面板製程。

我們的 Reliant 沉積產品可實現特殊製程藍圖，並延長晶圓廠的生產壽命。

我們的 Reliant 清洗產品可實現特殊製程藍圖，並延長晶圓廠的生產壽命。

我們的 Reliant 蝕刻產品可實現特殊製程藍圖，並延長晶圓廠的生產壽命。

SEMulator3D^® 是一個半導體製程建模平台，具有廣泛的技術開發能力。

這些介電層沉積產品可為高深寬比間隔提供完整的間隙填充，並具備業界領先的生產量與可靠度。

這款通過驗證的產品提供可靠、具成本效益的濕式清洗/濕式蝕刻解決方案，可輕柔地去除晶圓上的不必要材料。

Triton 平台是用於單晶圓電鍍和濕式製程的多功能模組化解決方案。

Lam Research的 PECVD產品能以高生產力為各種元件應用提供精密的介電層薄膜沉積。