- 大量生産のための完全自動化システム
- 510x515mm パネルの加工
- 薄型ガラスハンドリング能力
- パネルの両面同時加工
- 真空チャック技術による全面露出パネル表面加工
- めっきとエッチング均一性
- オンラインドーズおよび薬液モニタリングシステム (内部・外部) への対応
- ファブ環境に合わせた柔軟なツールレイアウト – 低COOのための最適化
- フェニックス VRT (垂直レジスト加工)
- フェニックス ECD (電気化学蒸着)
- フェニックス VCA (垂直クリーンアプリケーション)
- バンプ、ピラー、パッド、RDL、TGVやFLI向けCu、Ni、SnAg、Auなどの電気化学蒸着
- 金属エッチング、UBMエッチング、酸化物エッチング
- PR ストリップ、PR 現像
フェニックス製品シリーズ
Products
PR ストリップ PR 現像 ウェットクリーニング/ストリップ/エッチング 電解メッキ (ECD)
フェニックスは510x515mm 基板用の全自動大量パネル加工を提供します。
COOを再定義することを目的として設計されたフェニックスは、運用ユーティリティを適切に使用することでパネルレベルのパッケージ業界に独自のテクノロジーを提供します。
ウェハレベルの性能に触発されたフェニックスは、AI、ハイパフォーマンス・コンピューティングといったアプリケーションによって牽引される将来の市場要件に対応するため、ストリップ、開発、エッチング、めっきソリューションを提供します。
業界の課題
高度なパッケージングはBeyond Silicon、シリコンの限界を超えたスケーリングを続けるためにますます重要な手法となりつつあります。 性能とコストの要求を満たすために、いくつかのデバイスメーカーやファブレス企業は新しいチップレット・ソリューションの採用を増やしています。 この加速するチップレットへの移行は、基板市場セグメントにおける新しいパッケージング・ソリューションと技術革新を必要とします。 従来のシリコンのスケーリングがコストと技術の限界に近づいているため、企業は革新的なチップレットやヘテロジニアス・インテグレーションといったソリューションを取り入れつつあります。 継続的なスケーリングを確実にするために、基板ソリューションには、製造装置ソリューションにおける様々な革新が欠かせません。 技術ロードマップのニーズを満たすだけでなく、基板レベルの装置は、さまざまな材料やサイズのパネルを加工するための柔軟性を高める必要があります。 さらに、大量生産を行う現場では、高い生産性と低いCOOが望まれます。