原子層堆積(ALD) Archives - Lam Research
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Technology: 原子層堆積(ALD)

ALTUS製品ファミリー

化学気相成長(CVD) 原子層堆積(ALD)

CVDとALD技術を組み合わせた市場をリードするこれらのシステムにより、先進的なタングステンメタライゼーション用途向けに高コンフォーマルな金属膜を成膜します。

STRIKER シリーズ製品

原子層堆積(ALD)

高度なALD技術を活用することにより、これらの製品はナノスケールの機能を備えた高度なデバイスのクリティカルプロセスに対して優れた制御性能を実現する酸化膜を提供します。

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